Hada Labo Tokyo Lift Дневной и ночной крем для лица

Hada Labo Tokyo Lift „No-Wrinkles” Przeciwzmarszczkowy krem odbudowujący na dzień i noc

Japońska filozofia piękna jest zakorzeniona w idei, że produkty powinny działać w harmonii ze skórą. Zainspirowane tą filozofią, Hada Labo Tokyo™ ma zastąpić kluczowy element tego, co Twoja skóra naturalnie traci z czasem – kwas hialuronowy – ale z wyrafinowaną innowacją. Zawiera Super Hyaluronic Acid, ekskluzywną kombinację kilku rodzajów kwasu hialuronowego. Hada Labo Tokyo™ oferuje Twojej skórze potężne, wielowarstwowe nawilżenie, aby skutecznie zmniejszyć zmarszczki i przywrócić blask.

PRZECIWZMARSZCZKOWY KREM ODBUDOWUJĄCY NA DZIEŃ I NOC- Wypełniający głębokie zmarszczki i nawilżający krem-lifting. Zawiera kombinację kilku rodzajów kwasu hialuronowego, w tym Kwas Hialuronowy 3D o przestrzennej strukturze.Odmładzające Izoflawony Sojowe oraz Kolagen korygują nawet wyraźne zmarszczki i zwiększają sprężystość skóry. Super Hyaluronic Acid to specjalistyczna, stworzona w japońskich laboratoriach farmaceutycznych, kombinacja kilku rodzajów kwasu hialuronowego, który głęboko nawilża i wypełnia skórę.

Sposób użycia

Codziennie rano i wieczorem delikatnie wklepać w oczyszczoną skórę twarzy i szyi. Krem bez kompozycji zapachowej – polecany także do cery wrażliwej.

Skład (INCI)

Aqua, Glycerin, Butylene Glycol, Squalane, Caprylic/Capric Triglyceride, Dipropylene Glycol, Caprylic/Capric/Myristic/Stearic Triglyceride, PPG-10 Methyl Glucose Ether, Behenyl Alcohol, PEG-20 Sorbitan Isostearate, Sorbitan Stearate, Pullulan, Limnanthes Alba Seed Oil, Sodium Hyaluronate, Sodium Acetylated Hyaluronate, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Sodium Hyaluronate Crosspolymer, Hydrolyzed Collagen, Lactobacillus/Soymilk Ferment Filtrate, Phellodendron Amurense Bark Extract, Pentylene Glycol, Hydroxyethylcellulose, Carbomer, Propanediol, Tocopherol, Sodium Hydroxide, Disodium EDTA, Caprylhydroxamic Acid, Phenoxyethanol.

Powyższa lista składników może ulec zmianie, zalecamy sprawdzić etykietę na produkcie.