Remmers Clean AC кислотный чистящий препарат 10 кг.

Clean AC [basic] 10KG

Kwaśny preparat czyszczący

Zakres zastosowania

• Do muru licowego z klinkieru lub cegły
• Do usuwania resztek zapraw, mleczka wapiennego i cementowego
• Do usuwania kamienia wapiennego i kotłowego

Właściwości

• Wysokowydajny koncentrat w postaci proszku
• Łatwo rozpuszczalny w ciepłej wodzie
• Odczyn pH 0,8 ( roztwór 10 %)

Zużycie

• Około 0,05 - 0,1 kg/m², zależnie od stopnia zanieczyszczenia przy stosowaniu w rozcieńczeniu 1:10 z wodą
• Dokładne zapotrzebowanie należy określić wykonując odpowiednio dużą powierzchnię próbną.

Warunki stosowania

Temperatury materiału, otoczenia i podłoża powinny się mieścić w przedziale od min. +5 °C do maks. +30 °C.

Roztwór dopasowany do stopnia/rodzaju zanieczyszczenia nanieść za pomocą odpowiedniego urządzenia.

Powierzchnię oczyścić za pomocą szczotki do szorowania.

Zmyć używając dużej ilości wody.

Opcjonalnie zastosować mycie z użyciem myjki wysokociśnieniowej.

Preparat czyszczący należy całkowicie usunąć.

W razie potrzeby proces powtórzyć.

Przygotowania

Duże zanieczyszczenia należy usunąć mechanicznie.

Podłoże przewidziane do czyszczenia najpierw zmoczyć wodą.

Zależnie od stopnia zanieczyszczenia należy sporządzić roztwór w proporcji od 1 : 4 do 1 : 20.

Dla ułatwienia oceny skuteczności czyszczenia wykonać test na powierzchni próbnej.

Wskazówki wykonawcze

Sąsiadujące elementy budowlane i materiały, które nie mają wejść w kontakt z produktem, należy zabezpieczyć poprzez zastosowanie odpowiednich środków.

Należy przygotować odpowiednie wyposażenie do wychwytywania brudnej cieczy.

Pozostałości preparatu mogą doprowadzić do wytrącania się wapna.

Metale, które weszły w kontakt z preparatem, natychmiast umyć wodą.

Na skutek czyszczenia ciemne spoiny mogą ulec rozjaśnieniu.

Preparat nie nadaje się do stosowania na murze licowym z cegły wapienno-piaskowej.

W przypadku powierzchni silnie porowatych wzgl. podatnych na wykwity najpierw należy przeprowadzić impregnację, a dopiero potem rozpocząć czyszczenie (patent technologiczny DE3018116C2).