Атомно-слоевое осаждение полупроводников
Товар
33 478 ₽
Пошлина ≈501 ₽ не входит в цену.
Атомно-слоевое осаждение полупроводников
- 0 раз купили
- 0 оценка
- 10 осталось
- 0 отзывов
Доставка
Характеристики
Артикул
14565605449
Состояние
Новый
Język publikacji
angielski
Tytuł
Atomic Layer Deposition for Semiconductors
Autor
Cheol Seong Hwang
Nośnik
książka papierowa
Okładka
miękka
Rok wydania
2016
Waga produktu z opakowaniem jednostkowym
0.482 kg
Wydawnictwo
Springer-Verlag New York Inc.
Liczba stron
263
Szerokość produktu
15.5 cm
Wysokość produktu
23.5 cm
Stan opakowania
oryginalne
Описание
Atomic Layer Deposition for Semiconductors
This edited volume discusses atomic layer deposition (ALD) for all modern semiconductor devices, moving from the basic chemistry of ALD and modeling of ALD processes to sections on ALD for memories, logic devices, and machines.
- Wydawnictwo: Springer-Verlag New York Inc.
- Rok wydania: 2016
- Okładka: miękka
- Liczba stron: 263
- Wymiary: 15.5 x 23.5 x 1.5 cm
- Ilustracje: 1 Tables, color; 3 Tables, black and white; 81 Illustrations, color; 89 Illustrations, black and white; X, 263 p. 170 illus., 81 illus. in color.
- Język: angielski
- ISBN: 9781489979438
Гарантии
Гарантии
Мы работаем по договору оферты и предоставляем все необходимые документы.
Лёгкий возврат
Если товар не подошёл или не соответсвует описанию, мы поможем вернуть его.
Безопасная оплата
Банковской картой, электронными деньгами, наличными в офисе или на расчётный счёт.
Отзывы о товаре
