УФ-ФИЛЬТР Сверхнизкое отражение K&F CONCEPT NANO-X MRC 43 мм 43 мм

Filtr ultrafioletowy UV NANO-X MRC

Ultra-Low Reflection

Rozmiar filtra: 43 mm

FILTR NAJWYŻSZEJ JAKOŚCI

DEDYKOWANY DLA PROFESJONALISTÓW

FILTR Z INNOWACYJNYMI NANO-POWŁOKAMI

• Bardzo niski współczynnik odbicia 0,1%, eliminuje 99,9% spolaryzowanego światła i ma bardzo wysoką przepuszczalność
• Nowa technologia powlekania tytanem (powłoka tytanowa) sprawnie eliminuje ewentualne zażółcenie obrazu
• Filtr zapobiega odblaskom i podświetleniom oraz zapewnia nieskazitelną ostrość obrazu
• Ultra HD - wysoka rozdzielczość optyczna użytego szkła
• 28 Nano-powłok antyrefleksyjnych i ochronnych
• Super niski profil typu SLIM (jedyne 3,3mm grubości)
• Pierścień wykonany z  aluminium czernionego galwanicznie
• W zestawie solidne opakowanie do przechowywania filtra

Produkt firmy: K&F CONCEPT - bezsporny lider jakości w produkcji filtrów fotograficznych

MODEL: KF01.2458 / 43 mm NANO X UV Ultra Low Reflection

Firma K&F CONCEPT przedstawia znakomitej jakości, profesjonalne filtry UV. Są to filtry z najwyższej półki, mało jakie filtry dorównują im jakością wykonania i stopniem zaawansowania.

Filtr posiada aż kilkadziesiąt nano-powłok nałożonych warstwowo na szło optyczne.

Filtr ultrafioletowy - UV absorbuje promieniowanie ultrafioletowe, odcinając promieniowanie, które w największym natężeniu występuje w warunkach, gdzie powietrze jest wyjątkowo przejrzyste (szczególnie w górach i nad morzem), a które na zdjęciu wywoduje efekt zamglenia.

Filtr UV NANO-X MRC nie tylko poprawia jakość zdjęć ale jest również doskonałym zabezpieczeniem dla obiektywu przed wszelkiego rodzaju pyłkami, tłuszczami, kurzem oraz uszkodzeniami mechanicznymi.

Cechy filtru K&F UV NANO-X MRC:

• Wyprodukowany ze szkła optycznego najwyższej jakości, dzięki temu transmisja światła jest dużo wyższa i wynosi ponad 99,9%
• Filtr posiada specjalne nano-powłoki zapewniające znaczącą redukcję odblasków i poprawę wykonywanych zdjęć.
• Filtr pokryto również powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Powłoki zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń.
• Doskonały stosunek jakości do ceny.

Filtr UV NANO-X MRC jest dedykowany do wszystkich aparatów i kamer ze średnicą obiektywu 43 mm.

Filtr pasuje m.in do aparatów posiadających następujące modele obiektywów:

Canon

• EF-M 22MM 2.0 STM
• RF 50mm F1.8 STM
• EF-M 32 mm f/1.4 STM
• EF-M 28mm f/3.5 Macro IS STM

Fujifilm

• XF 35 mm f/2.0 R WR

SPECYFIKACJA FILTRA:

• Wykonany z najwyższej jakości, japońskiego szkła optycznego
• NANO-X MRC - Nano-powłoki antyrefleksyjne i ochronne
• Nie zmienia kolorystyki kadru - jest całkowicie neutralny
• Super cienka i lekka, aluminiowa ramka typu SLIM o grubości jedyne 3,3mm
• Tytanowa powłoka
• Brak negatywnego wpływu na pracę układu AUTOFOCUS
• Solidne pudełko ochronne na filtr w zestawie

• Filtr pokryto powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Stanową one doskonałe zabezpieczenie filtra nawet w najtrudniejszych warunkach
• Filtr posiada powłoki, które zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń

W zestawie:

• 1x filtr
• 1x solidne, sztywne opakowanie zapobiegające zarysowaniom, uszkodzeniom oraz ułatwiające transport filtra

Przykładowe zastosowanie filtru K&F CONCEPT NANO-X MRC

Uwaga! Aparaty, obiektywy, statywy i inne akcesoria dodatkowe przedstawione na zdjęciach pełnią jedynie rolę podglądową i nie są przedmiotem sprzedaży.

Produkt fabrycznie nowy, w oryginalnym opakowaniu.

Kod produktu (SBkod): SB8548