MOS Interface Physics, Process and Characterization SHENGKAI WANG

Товар

18 558  ₽
MOS Interface Physics, Process and Characterization SHENGKAI WANG

Доставка

  • Почта России

    от 990 ₽

  • Курьерская доставка EMS

    от 1290 ₽

Характеристики

Артикул
16978890003
Состояние
Новый
Autor
Shengkai Wang
Tytuł
MOS Interface Physics, Process and Characterization
Nośnik
książka papierowa
Okładka
miękka
Rok wydania
2024
Wydawnictwo
Taylor & Francis
Liczba stron
162
Numer wydania
1
Stan opakowania
oryginalne
Język publikacji
angielski
Wysokość produktu
22.9 cm
Szerokość produktu
15.2 cm

Описание

MOS Interface Physics, Process and Characterization SHENGKAI WANG

MOS Interface Physics, Process and Characterization

The electronic device based on Metal Oxide Semiconductor (MOS) structure is the most important component of a large-scale integrated circuit and the key to achieving high performance devices. This book contains experimental examples focusing on MOS and will be a reference for academics and postgraduates in the field of microelectronics.

  • Autor: Shengkai Wang, Xiaolei Wang
  • Wydawnictwo: Taylor & Francis
  • Rok wydania: 2024
  • Okładka: miękka
  • Liczba stron: 162
  • Wymiary: 22.9 x 15.2 x 0 cm
  • Ilustracje: 1 Tables, black and white; 97 Line drawings, black and white; 26 Halftones, black and white; 123 Illustrations, black and white
  • Język: angielski
  • ISBN: 9781032106281

Гарантии

  • Гарантии

    Мы работаем по договору оферты и предоставляем все необходимые документы.

  • Лёгкий возврат

    Если товар не подошёл или не соответсвует описанию, мы поможем вернуть его.

  • Безопасная оплата

    Банковской картой, электронными деньгами, наличными в офисе или на расчётный счёт.

Отзывы о товаре

Рейтинг товара 0 / 5

0 отзывов

Russian English Polish