Aparat nadmuchowy z nawiewem półmaska średnia

REWOLUCYJNA OCHRONA DRÓG ODDECHOWYCH - maska ochronna CLEANSPACE™ z systemem filtrowentylacji

Półmaska średnia

do aparatu oddechowego z inteligentnym systemem nawiewu CLEANSPACE™2

kod produktu PAF-1010

Półmaska jest specjalnie zaprojektowane do pracy w systemie CleanSpace. Kompatybilna ze wszystkimi maskami oddechowymi CleanSpace, oraz złączem Half Mask na jednostkach zasilających. Półmaskę można łatwo odłączyć w celu czyszczenia. Maska jest wykonana z miękkiego silikonu, który łatwo formuje się do twarzy i nie powoduje alergicznego zapalenia skóry.

Certyfikaty: AS/NZS1716: 2012, EN 12942, IP Rating 66

Materiały: miękka, silikonowa poduszka, klipsy nylonowe i poliwęglan (zawór wydechowy) -przezroczyste i ułatwiające komunikację

Zalety:

• doskonałe uszczelnienie
• dostępna w trzech rozmiarach
• Łatwa i wygodna w obsłudze
• Łatwy montaż – urządzenie szybko gotowe do użycia

Zastosowanie:

• Spawanie
• Produkcja
• Budownictwo
• Rośliny Recyklingowe
• Rolnictwo
• Zakłady Przetwórcze
• Szlifowanie

Dane techniczne:

• masa: 125g
• rozmiary: 170 x 130 x 70mm

Czyszczenie:

Można prać w pralce lub używać w ciepłej wodzie do mycia. Nie używać rozpuszczalników (terpentyna lub aceton), gorącej wody, wybielacza lub środków chemicznych.

Przechowywanie i stosowanie:

od -10 ° C do + 55 ° C przy wilgotności względnej <90%. Przechowywać z dala od bezpośredniego światła słonecznego, smaru i oleju.

Na kompletną maskę składają się następujące elementy:

1. Respirator Cleanspaces2 - dostępny na tej aukcji
2. Maska twarzowa w jednym z 3 rozmiarów (mała; średnia; duża)
3. Złącze filtra
4. Filtry:

a- WYSOKOWYDAJNY FILTR CZĄSTEK P3 HEPA ;

b- A1P3: GAZY I PARY ORGANICZNE + CZĄSTKI

c- BE1P3A: GAZY I PARY ORGANICZNE I KWASOWE + CZĄSTKI NIEORGANICZNE

       5.  Filtry  CZĄSTEK lub  WSTĘPNY do A1P3 i BE1P3A

Rodzaj filtru dobierany jest w zależności zagrożenia jakie niesie wykonywana praca.

Aparaty oddechowe Cleanspace oraz akcesoria są ofertą firmy Ottensten Polska